J.L.Lee,K.H.Shim,J.S.Kim,H.M.Park,D.S.Ma,S.Tanigawa and A.Uedono: "Depth profiles of vacancy-type defects in Si^+-implanted GaAs resulting from rapid thermal annealing" J.Appl.Phys.65. 396-398 (1989)
J.L.Lee,K.H.Shim,J.S.Kim,H.M.Park,D.S.Ma,S.Tanigawa and A.Uedono: "Depth profiles of vacancy-type defects in Si^+-implanted GaAs resulting from rapid thermal annealing" J.Appl.Phys.65. 396-398 (1989)
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J.L.Lee、K.H.Shim、J.S.Kim、H.M.Park、D.S.Ma、S.Tanikawa 和 A.Uedono：“快速热退火产生的 Si^ 注入 GaAs 中空位型缺陷的深度剖面”J.Appl.Phys.65
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