Accelerated Publication: Electrical characterization and morphological properties of AlN films prepared by dc reactive magnetron sputtering
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加速出版：直流反应磁控溅射制备 AlN 薄膜的电学特性和形貌特性
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. A. Diniz
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Moreira;I. Doi;J. F. Souza;J. A. Diniz
