M.Shimozuma,M.Ishikawa & H.Tagashira: "DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILM ON POLYMER WITHOUT HEATING USING 50Hz PLASMA CVD" Proc.of 11th International Symp.on Plasma Chemistry. Vol.3. 829-833 (1993)
M.Shimozuma,M.Ishikawa & H.Tagashira: "DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILM ON POLYMER WITHOUT HEATING USING 50Hz PLASMA CVD" Proc.of 11th International Symp.on Plasma Chemistry. Vol.3. 829-833 (1993)
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下祖马先生,石川先生
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