Effect of Post-Deposition Annealing on Interface Properties of Deposited Tetraethylorthosilicate-SiO2/SiC Structure
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沉积后退火对沉积原硅酸四乙酯-SiO2/SiC结构界面性能的影响
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomohiko Yamakami and Kiichi Kamiura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takuo Kanou,Takashi Sakai;Tomohiko Yamakami and Kiichi Kamiura
