Formation of metal and silicide nanodots on ultrathin gate oxide induced by H2-plasma, (Invited : IO-11)
Formation of metal and silicide nanodots on ultrathin gate oxide induced by H2-plasma, (Invited : IO-11)
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H2-等离子体诱导超薄栅极氧化物上金属和硅化物纳米点的形成（邀请：IO-11）
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Shimanoe and R. Matsumoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Miyazaki;M. Ikeda;K. Makihara;K. Shimanoe and R. Matsumoto
