Y. Hikosaka, M. Nakamura, H. Sugai: "Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 2157-2163 (1994)
Y. Hikosaka, M. Nakamura, H. Sugai: "Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 2157-2163 (1994)
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Y. Hikosaka、M. Nakamura、H. Sugai：“感应耦合蚀刻等离子体中的自由基”日本应用物理学杂志。
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