Pressure Dependence of Photoresist Removal Rate Using Hydrogen Radicals
Pressure Dependence of Photoresist Removal Rate Using Hydrogen Radicals
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使用氢自由基去除光刻胶速率的压力依赖性
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Nishiyama and H. Horibe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yamamoto;T. Shiroi;S. Nagaoka;T. Shikama;H. Umemoto;K. Ohdaira;T. Nishiyama and H. Horibe
