Fumio Yoshizawaほか: "Direct Nucleation of Crystalline SiGe on Substrate by Reactive Thermal CVD with Si2H6 and GeF4" Proc.Mat.Res.Soc. 467. 349-354 (1997)
Fumio Yoshizawaほか: "Direct Nucleation of Crystalline SiGe on Substrate by Reactive Thermal CVD with Si2H6 and GeF4" Proc.Mat.Res.Soc. 467. 349-354 (1997)
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Fumio Yoshizawa 等人：“通过使用 Si2H6 和 GeF4 的反应热 CVD 在基板上直接成核晶体 SiGe”Proc.Mat.Res.Soc. 467. 349-354 (1997)
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