Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor
Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor
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使用等离子体激发水蒸气进行氧化锆的室温原子层沉积
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Fumihiko Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Tokoro;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
