"Anomalous VFB Shift in High-k Gate Stacks-Is its origin at the top or bottom interface?-"(invited)
"Anomalous VFB Shift in High-k Gate Stacks-Is its origin at the top or bottom interface?-"(invited)
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“高k栅极堆栈中的异常VFB偏移-其起源在顶部还是底部界面？-”（特邀）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Nabatame
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A.Toriumi;T.Nabatame
