分子線エピタキシャル結晶成長を用いた表面創成 - ヘリコンスパッタリング分子線源を 用いたSi-Si ホモエピタキシャル成長
分子線エピタキシャル結晶成長を用いた表面創成 - ヘリコンスパッタリング分子線源を 用いたSi-Si ホモエピタキシャル成長
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使用分子束外延晶体生长进行表面创建 - 使用螺旋溅射分子束源进行 Si-Si 同质外延生长
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川上俊介，角田陽
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. KAKUTA; S. MARUTA;川上俊介，角田陽
