20～300Kにおける水素含有物質の断面積測定―o-キシレン、p-キシレン、m-キシレン―
20～300Kにおける水素含有物質の断面積測定―o-キシレン、p-キシレン、m-キシレン―
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20～300K下含氢物质截面积测量 - 邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯 -
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
原田正英 他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
下条晃司郎;笹貫武丸;Sebastian Schone;杉田剛;岡村浩之;池田篤史;下条晃司郎;下条晃司郎;原田正英 他;原田正英 他
