Polyamorphism in vapor-deposited 2-methyltetrahydrofuran: A broadband dielectric relaxation study
Polyamorphism in vapor-deposited 2-methyltetrahydrofuran: A broadband dielectric relaxation study
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气相沉积 2-甲基四氢呋喃中的多晶现象：宽带介电弛豫研究
DOI：
10.1063/5.0035591
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Richert, Ranko
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Gabriel, Jan Philipp;Riechers, Birte;Thoms, Erik;Guiseppi-Elie, Anthony;Ediger, Mark D.;Richert, Ranko
