Y. Matsuda, K. Tashiro, K. Otomo and H. Fujiyama: "Global Quantitative Analysis of Reactive Sputtering Process for MgO Deposition"Proceedings of the 7th International Display Workshops (IDW2000), Nov.29-Dec.1, 2000, Kobe. (invited). 667-670 (2000)
Y. Matsuda, K. Tashiro, K. Otomo and H. Fujiyama: "Global Quantitative Analysis of Reactive Sputtering Process for MgO Deposition"Proceedings of the 7th International Display Workshops (IDW2000), Nov.29-Dec.1, 2000, Kobe. (invited). 667-670 (2000)
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Y. Matsuda、K. Tashiro、K. Otomo 和 H. Fujiyama：“MgO 沉积反应溅射过程的全球定量分析”第七届国际显示研讨会 (IDW2000) 会议记录，2000 年 11 月 29 日至 12 月 1 日，神户
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