Characterization of microstructure and surface properties of GLC film deposited in plasma nitriding system
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DOI：
10.1016/j.diamond.2021.108570
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发表时间：
2021-08
影响因子：
4.1
通讯作者：
Yang Yang-Yang;Jie Li;Ze Zhang;S. Zhang;Zhang Sufang;Q. Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yang Yang-Yang;Jie Li;Ze Zhang;S. Zhang;Zhang Sufang;Q. Wang
