Photoinduced Surface Relief Grating Formation Using Azobenzene-based Molecular Materials : N-(Binhenyl-4-yl)-N-(4'-methoxybiphenyl-4-yl)-4-phenylazoaniline
Photoinduced Surface Relief Grating Formation Using Azobenzene-based Molecular Materials : N-(Binhenyl-4-yl)-N-(4'-methoxybiphenyl-4-yl)-4-phenylazoaniline
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使用偶氮苯基分子材料形成光诱导表面浮雕光栅：N-(联芩基-4-基)-N-(4-甲氧基联苯-4-基)-4-苯基偶氮苯胺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Nakano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
菊地あづさ;原田ゆかり;八木幹雄;守屋雄介;生方俊;横山泰;阿部二朗;H. Nakai;Y. Miyano;中井英隆;中井英隆;H. Nakai;宮野洋佑;中井英隆;宮野洋佑;鳥海幸四郎;H. Nakai;中井英隆;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;H. Nakano
