Growth of High-Purity Diamond Films and Doping for Quantum Device Applications
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复制标题
用于量子器件应用的高纯度金刚石薄膜的生长和掺杂
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Teraji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Kafar;R. Ishii;S. Stanczyk;K. Gibasiewicz;S. Grzanka;T. Suski;P. Perlin;M. Funato and Y. Kawakami;T.Teraji
