Stress evolution during epitaxial growth of SrO films on hydrogen-terminated Si(111) surfaces
Stress evolution during epitaxial growth of SrO films on hydrogen-terminated Si(111) surfaces
复制标题
氢封端 Si(111) 表面外延生长 SrO 薄膜时的应力演化
DOI：
10.1016/s0038-1098(02)00579-3
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发表时间：
2002
影响因子：
2.1
通讯作者：
A. Koma
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Asaoka;Y. Machida;H. Yamamoto;K. Hojou;K. Saiki;A. Koma
