Preparation and Characterization of Y, Zr-doped HfO2 Thin Film by PLD Method
Preparation and Characterization of Y, Zr-doped HfO2 Thin Film by PLD Method
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PLD法制备Y、Zr掺杂HfO2薄膜并表征
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yu-ki Tashiro;Takanori Mimura;Takao Shimizu;and Hiroshi Funakubo
