65nmプロセスを用いた二層構造オンチップメタル偏光子搭載イメージセンサ
65nmプロセスを用いた二層構造オンチップメタル偏光子搭載イメージセンサ
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采用 65nm 工艺的双层片上金属偏光片图像传感器
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡林大恭,若間範充,野田俊彦,笹川清隆,徳田崇,太田淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Norimitsu Wakama;Nobuya Tachikawa;Kimitada Terao;Mikiko Shibata;Toshihiko Noda;Kiyotaka Sasagawa;Takashi Tokuda;Yasuhiro Nishiyama;Kiyomi Kakiuchi;Jun Ohta;若間範充,岡林大恭,野田俊彦,笹川清隆,徳田崇,垣内喜代三,太田淳;岡林大恭,若間範充,野田俊彦,笹川清隆,徳田崇,太田淳
