High-rate sputter deposition of chromium oxide thin films under metallic target mode using water vapor as a reactive gas
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水蒸气作为反应气体在金属靶模式下高速溅射沉积氧化铬薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takayuki Kiba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fan Wang;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
