Growth of ZrC thin films by aerosol-assisted MOCVD
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2006.12.071
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发表时间：
2007-06
影响因子：
1.8
通讯作者：
Y. Won;Young Seok Kim;V. Varanasi;O. Kryliouk;T. Anderson;Chatu T. Sirimanne;L. McElwee‐White
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Won;Young Seok Kim;V. Varanasi;O. Kryliouk;T. Anderson;Chatu T. Sirimanne;L. McElwee‐White
