炭化水素ガスの反応性熱CVD法によるCarbon-SiO2膜の作製と気体透過特性
炭化水素ガスの反応性熱CVD法によるCarbon-SiO2膜の作製と気体透過特性
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反应热CVD法制备碳-SiO2膜及其气体渗透性能
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
都留 稔了
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉岡 朋久;林 明日香;金指 正言;都留 稔了
