Fabrication of Cu3VO4 thin films by Mist CVD method
Fabrication of Cu3VO4 thin films by Mist CVD method
复制标题
雾化CVD法制备Cu3VO4薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Masao Kita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takahiro Daimon;Makoto Inoue;Tomoyuki Homma;and Masao Kita
