Simulation of inductively coupled plasma with applied bias voltage using COMSOL
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DOI：
10.1016/j.vacuum.2014.06.012
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发表时间：
2014-11
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
A. Brezmes;C. Breitkopf
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Brezmes;C. Breitkopf
