Design, fabrication, and test of an EUV mask imaging microscope for lithography generations with sub-16 nm half pitch
Design, fabrication, and test of an EUV mask imaging microscope for lithography generations with sub-16 nm half pitch
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用于 16 nm 以下半节距光刻一代的 EUV 掩模成像显微镜的设计、制造和测试
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Kinoshita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Toyoda;K. Yamasoe;M. Yanagihara;T. Amano;T. Terasawa;A. Tokimasa;T. Harada;T. Watanabe;H. Kinoshita
