カチオン性高分子修飾シリカ粒子を利用した非最密充填構造の粒子膜作製
カチオン性高分子修飾シリカ粒子を利用した非最密充填構造の粒子膜作製
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阳离子聚合物改性二氧化硅颗粒制备非密堆积结构颗粒膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
原奈菜美，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Karisma;A.D.;T. Hamaba;T. Fukasawa;A.-N. Huang;T. Segawa;K. Fukui;原奈菜美，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
