Preparation of HfO2-Al2O3 composite films using chemical vapor deposition and their nanostructures
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化学气相沉积法制备HfO2-Al2O3复合薄膜及其纳米结构
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Ito
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Matsumoto;A. Ito
