Molecular Dynamics Simulation of Poly Acrylic Acid as a Resist Material for Thermal Nanoimprint Lithography Processes
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聚丙烯酸作为热纳米压印光刻工艺抗蚀剂材料的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Odujole J., Desai S.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Odujole J., Desai S.
