Y.Hayashi, T.Soga, T.Jimbo: "Photovoltaic Properties of Boron-Incorporated Amorphous Carbon on n-Si Heterojunction Grown by Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Trimethylboron"Japanese Journal of Applied Physics. 42. L273 (2003)
Y.Hayashi, T.Soga, T.Jimbo: "Photovoltaic Properties of Boron-Incorporated Amorphous Carbon on n-Si Heterojunction Grown by Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Trimethylboron"Japanese Journal of Applied Physics. 42. L273 (2003)
复制标题
Y.Hayashi、T.Soga、T.Jimbo：“使用三甲基硼射频等离子体增强化学气相沉积在 n-Si 异质结上掺硼非晶碳的光伏特性”日本应用物理学杂志。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
