Electrical Property of Nano-Crystalline Silicon Thin-Films Prepared by Very High Frequency Plasma Deposition System
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复制标题
甚高频等离子体沉积系统制备纳米晶硅薄膜的电学性能
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Shunri Oda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshifumi Nakamine;Tetsuo Kodera;Ken Uchida;Mutsuko Hatano;and Shunri Oda
