Control of native acceptor density in epitaxial Cu 2 O thin films grown by electrochemical deposition
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2016.11.023
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发表时间：
2017-06
影响因子：
1.8
通讯作者：
A. Ashida;Shunsuke Sato;T. Yoshimura;N. Fujimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Ashida;Shunsuke Sato;T. Yoshimura;N. Fujimura
