Nucleation Frequency Distribution of Si Nanoparticles in the Chamber downstream of Modulated Induction Thermal Plasmas with Modulated Quenching Gas Injection
Nucleation Frequency Distribution of Si Nanoparticles in the Chamber downstream of Modulated Induction Thermal Plasmas with Modulated Quenching Gas Injection
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采用调制淬火气体注入的调制感应热等离子体下游室中硅纳米颗粒的成核频率分布
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keitaro Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keita Akashi*;Kazuki Onda;Ryudai Furukawa;Yasunori Tanaka;Yusuke Nakano;Yoshihiko Uesugi;Tatsuo Ishijima;Shiori Sueyasu;Shu Watanabe;Keitaro Nakamura
