T.Hara,and R.Ichikawa: "Dose and Damage Measurements in Low Dose Ion Implantation in Silicon by PhotoーAcoustic Displacement and" Japan J.Appl.,Phys.30. (1991)
T.Hara,and R.Ichikawa: "Dose and Damage Measurements in Low Dose Ion Implantation in Silicon by PhotoーAcoustic Displacement and" Japan J.Appl.,Phys.30. (1991)
复制标题
T.Hara 和 R.Ichikawa：“通过光声位移进行硅中低剂量离子注入的剂量和损伤测量”，Japan J.Appl.，Phys.30 (1991)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
