High-temperature solution growth and characterization of chromium disilicide

High-temperature solution growth and characterization of chromium disilicide
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二硅化铬的高温溶液生长及表征

DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 42,Part1
影响因子：
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通讯作者：
H.Horiuchi et al.
H.Horiuchi et al.
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
T.Shishido;H.Horiuchi et al.

文献摘要

参考文献

被引文献

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DOI： 10.1143/jjap.41.3031
发表时间： 2002
期刊： Japanese Journal of Applied Physics
影响因子： 1.5
作者：
T. Shishido;Jinhua Ye;S. Okada;K. Kudou;M. Oku;K. Obara;T. Sugawara;A. Yoshikawa;Y. Ishizawa;M. Ogawa;K. Iizumi;I. Higashi;T. Amano;S. Kohiki;Y. Kawazoe;K. Nakajima
通讯作者： K. Nakajima