応力印加場での局所表面融液エピタキシャル結晶成長による突起構造形成過程の熱画像解析
応力印加場での局所表面融液エピタキシャル結晶成長による突起構造形成過程の熱画像解析
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应力场下局部表面熔融外延晶体生长突起结构形成过程的热像分析
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西村 高志,磯部 文哉,富取 正彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yamato Shinnosuke;Yamaji Akihiro;Kurosawa Shunsuke;Yoshino Masao;Ohashi Yuji;Kamada Kei;Yokota Yuui;Yoshikawa Akira;Daniel M. Packwood;西村 高志,磯部 文哉,富取 正彦
