HラジカルによるSi表面プラズマェッチングにおける表面H拡散の役割
HラジカルによるSi表面プラズマェッチングにおける表面H拡散の役割
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表面氢扩散在氢自由基硅表面等离子体蚀刻中的作用
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安武潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
稲垣耕司;森川良忠;安武潔
