Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode

Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode
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使用空心圆柱阴极反应溅射制备 ZrON 薄膜的表征

DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
Proceedings of 14th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2017)
影响因子：
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通讯作者：
T. Sekiya
T. Sekiya
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
H. Iwata;H. Ishii;D. Kato;S. Kawashima;K. Kodama;M. Tanaka;T. Sekiya

文献摘要

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