Growth Mechanisms of a-SiC:H Films in Chemical Vapor Deposition: Density-Functional Tight-Binding Simulations
Growth Mechanisms of a-SiC:H Films in Chemical Vapor Deposition: Density-Functional Tight-Binding Simulations
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化学气相沉积中 a-SiC:H 薄膜的生长机制：密度功能紧结合模拟
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takuya Kuwahara;Hiroshi Ito;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;Momoji Kubo
