O.A.Fouad, M.Yamazato, H.Ichinose, M.Nagano: "Investigation of RF power effect on the deposition and properties of PECVD TiSi_2 thin film"Applied Surface Science. 195. 130-136 (2002)

O.A.Fouad, M.Yamazato, H.Ichinose, M.Nagano: "Investigation of RF power effect on the deposition and properties of PECVD TiSi_2 thin film"Applied Surface Science. 195. 130-136 (2002)
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O.A.Fouad、M.Yamazato、H.Ich​​inose、M.Nagano:“射频功率对 PECVD TiSi_2 薄膜沉积和性能影响的研究”应用表面科学。

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