Doping Variation of Optical Properties in ZrNCl Superconductors
Doping Variation of Optical Properties in ZrNCl Superconductors
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ZrNCl 超导体光学性能的掺杂变化
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岩佐義宏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高野琢;笠原裕一;小口多美夫;長谷泉;田口康二郎;岩佐義宏
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影响因子：
3.7
作者：
Heid, R;Bohnen, KP
通讯作者：
Bohnen, KP
通过光电发射和 X 射线吸收研究准二维 Na 插层 β-HfNCl 绝缘体到金属转变过程中电子结构的变化
影响因子：
3.7
作者：
T. Yokoya;Y. Ishiwata;Shik Shin;S. Shamoto;K. Iizawa;T. Kajitani;I. Hase;Takashi Takahashi
通讯作者：
Takashi Takahashi
蜂窝晶格上掺杂带绝缘体的非常规配对：断开的费米表面的作用以及在超导 β-MNCl (M=Hf, Zr) 中的可能应用
影响因子：
5.5
作者：
K. Kuroki
通讯作者：
K. Kuroki
影响因子：
3.7
作者：
Kuroki, Kazuhiko
通讯作者：
Kuroki, Kazuhiko
非常规超导电子掺杂层状Li_<0.48>(THF)_yHfNCl
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
Phys. Rev. Lett. 86
影响因子：
--
作者：
H.Takayanagi;K.Nitta S.Ishikawa;J.Nakamura;R.Yagi;L.Zhu;S.Yamanaka;H.Fukuoka;H.Fukuoka;K.Tanigaki;D.H.Chi;Y.Ren;G.M.Kalvius;M.Nakajima;D.Huo;K.Miyamoto;M.Koyama;H.Sato;K.Yamamoto;T.Fukunaga;T.Fujiwara;折茂慎一;J.Nakamura;T.Oguchi;T.Takasaki;H.Takagiwa;H.Takagiwa;S.Kobayashi;H.Tou;K.Shimada;H.Sato;G.Goll;T.Sasakawa;T.Goto;Y.Echizen;Y.Muro;J.Kitagawa;A.S.Miguel;K.Kunii;E.Reny;L.Zhu;X.Chen;N.Okuda;O.Syshchenko;H.Takagiwa;H.Tou;Y.Nakamori;T.Fujiwara;J.Tamura;J.Nakamura;T.Iwasaki;A.S.Miguel;X.Chen;J.Tamura-Okada;T.Goto;M.Matsunami;H.Okamura;F.Iga;H.Okamura;G.M.Kalvius;S.O.Hong;K.Shimada;J.Kitagawa;K.Prokes;H.Sato;S.Qiao;S.Qiao;H.Sato;H.Sato;H.Sato;Y.Ueda;S.Orimo;K.Koyama;T.Fujiwara;S.Orimo;T.Fujiwara;T.Fukunaga;O.Syshchenko;O.Syshchenko;K.Yagasaki;T.Oguchi;H.Momida;K.Oka;Yu-Jun Zhao;小口多美夫;小口多美夫;小口多美夫;T.Ekino;T.Ekino;T.Ekino;T.Ekino;M.H.Jung;T.Ichikawa;T.Jo;T.Jo;T.Jo;T.Muranaka;S.Tsuji;M.Sera;S.Kobayashi;S.Tsuji;T.Nagata;M.Matsumura;H.Tou;H.Tou
通讯作者：
H.Tou