フィルタードアーク蒸着法を用いたF-DLC 膜の形成

フィルタードアーク蒸着法を用いたF-DLC 膜の形成
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采用过滤电弧蒸发法形成F-DLC薄膜

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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
今井貴大,藤井裕真,山野将史,針谷達,須田善行,滝川浩史,神谷雅男(伊藤光学工業),瀧真,長谷川祐史,辻信広(オンワード技研)
今井貴大,藤井裕真,山野将史,針谷達,須田善行,滝川浩史,神谷雅男(伊藤光学工業),瀧真,長谷川祐史,辻信広(オンワード技研)
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
S. Kiyohara;S. Yoshida;I. Ishikawa;T. Harigai;H. Takikawa;M. Watanabe;Y. Sugiyama;Y. Omata;Y. Kurashima;藤井裕真,今井貴大,宮本優,針谷達,須田善行,滝川浩史,田上英人(北九州高専),神谷雅男(伊藤光学),瀧真,長谷川祐史,辻信広(オンワード技研),金子智(神奈川産技セ),安井治之(石川工試),國次真輔(岡山工技セ),川口雅弘(東京都産技研),三浦健一(大阪府産技研);今井貴大,藤井裕真,山野将史,針谷達,須田善行,滝川浩史,神谷雅男(伊藤光学工業),瀧真,長谷川祐史,辻信広(オンワード技研)

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