T.Nakajima,K.Yamashita: "Ab initio Study of aluminum chemical Vapor Deposition from dimethylaluminum hydride : a gas phase reaction mechanism"Journal of Molecular Structure (THEOCHEM). 490. 155-166 (1999)
T.Nakajima,K.Yamashita: "Ab initio Study of aluminum chemical Vapor Deposition from dimethylaluminum hydride : a gas phase reaction mechanism"Journal of Molecular Structure (THEOCHEM). 490. 155-166 (1999)
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T.Nakajima，K.Yamashita：“二甲基氢化铝铝化学气相沉积的从头研究：气相反应机理”分子结构杂志（THEOCHEM）。
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