Pt/SrBiTa209/HfO2/Si強誘電体ゲートトランジスタへのシリコン表面窒化の効果
Pt/SrBiTa209/HfO2/Si強誘電体ゲートトランジスタへのシリコン表面窒化の効果
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硅表面氮化对Pt/SrBiTa2O9/HfO2/Si铁电栅晶体管的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
酒井 滋樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
堀内 健史;大橋 憲太郎;Shouyu Wang;Qiu-Hong Li;高橋 光恵;酒井 滋樹
