ステップを有するGaN基板モデルを用いた化学機械研磨プロセスの計算化学的検討
ステップを有するGaN基板モデルを用いた化学機械研磨プロセスの計算化学的検討
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使用 GaN 衬底模型的化学机械抛光工艺的计算化学研究（分步骤）
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
五十嵐拓也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齊藤貴之;仲山和海;大武義人;河原成元;Hiroko Yamada;五十嵐拓也
