熱フィラメントCVD法による窒化ホウ素膜の形成と純チタンに対する耐凝着性評価
熱フィラメントCVD法による窒化ホウ素膜の形成と純チタンに対する耐凝着性評価
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热丝CVD法氮化硼膜的成膜及纯钛的耐附着性评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Jin Yong，安原重雄，清水徹英，楊明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuichi Takeuchi;Michio Hori;Shinya Tada;Yoichi Oda;Jin Yong，安原重雄，清水徹英，楊明
