Embedding of Ti Nanodots into SiO<sub>x</sub> and Its Impact on Resistance Switching Behaviors

Embedding of Ti Nanodots into SiO<sub>x</sub> and Its Impact on Resistance Switching Behaviors
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Ti纳米点嵌入SiO<sub>x</sub>及其对电阻开关行为的影响

DOI:
10.1587/transele.e100.c.468
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发表时间:
2017
影响因子:
0.5
通讯作者:
and S. Miyazaki
and S. Miyazaki
中科院分区:
工程技术4区
文献类型:
--
作者:
Y. Kato;A. Ohta;M. Ikeda;K. Makihara;and S. Miyazaki

文献摘要

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