RFマグネトロンスパッタ法における基板へのイオン照射を用いたc軸配向ZnO薄膜の極性制御
RFマグネトロンスパッタ法における基板へのイオン照射を用いたc軸配向ZnO薄膜の極性制御
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射频磁控溅射法中离子辐照衬底 c 轴取向 ZnO 薄膜的极性控制
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松川真美
中科院分区：
文献类型：
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作者：
生駒遼;柳谷隆彦;高柳真司;鈴木雅視;小田川裕之;松川真美
