Simultaneous Tuning of Tunnel Resistance of Integrated Nanogaps by Field-Emission-Induced Electromigration
Simultaneous Tuning of Tunnel Resistance of Integrated Nanogaps by Field-Emission-Induced Electromigration
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通过场发射诱导电迁移同时调谐集成纳米间隙的隧道电阻
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J.Shirakashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Ito;S.Ueno;T.Watanabe;S.Akimoto;J.Shirakashi
