Resist-pattern guided self-assembly ot symmetric diblock copolymer

Resist-pattern guided self-assembly ot symmetric diblock copolymer
复制标题

抗蚀图案引导对称二嵌段共聚物自组装

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
Journal of Photopolymer Scinece and Technology 19
影响因子:
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通讯作者:
T. Yamaguchi
T. Yamaguchi
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
三浦陽子;他;T. Yamaguchi

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